|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 41 van 63 gevonden artikelen
| Titel: |
Plasma immersion ion implantation of nitrogen in Si: formation of SiO2, Si3N4 and stressed layers under thermal and sputtering effects |
| Auteur: |
Ueda, M Beloto, A.F Reuther, H Parascandola, S |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 136 (2001) nr. 1-3 pagina's 5 p. |
| Jaar: |
2001 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Science B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 41 van 63 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |