|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 23 van 63 gevonden artikelen
| Titel: |
Ion-assisted deposition of copper using an inverter plasma |
| Auteur: |
Kiuchi, Masato Murai, Kensuke Tanaka, Katsutoshi Takechi, Seiji Sugimoto, Satoshi Goto, Seiichi |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 136 (2001) nr. 1-3 pagina's 3 p. |
| Jaar: |
2001 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Science B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 23 van 63 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |