|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 9 van 14 gevonden artikelen
| Titel: |
On the deposition mechanism of a-C:H films by plasma enhanced chemical vapor deposition |
| Auteur: |
Cheng, Y.H. Wu, Y.P. Chen, J.G. Qiao, X.L. Xie, C.S. Tay, B.K. Lau, S.P. Shi, X. |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 135 (2000) nr. 1 pagina's 7 p. |
| Jaar: |
2000 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Science B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 9 van 14 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |