|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 10 van 32 gevonden artikelen
| Titel: |
Fabrication and characteristics of SiO x films by plasma chemical vapor deposition of tetramethylorthosilicate |
| Auteur: |
Yang, Mu-Rong Chen, Ko-Shao Hsu, Shao-Ta Wu, Tzong-Zeng |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 123 (2000) nr. 2-3 pagina's 6 p. |
| Jaar: |
2000 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Science S.A. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 10 van 32 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |