|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 8 van 16 gevonden artikelen
| Titel: |
Growth of amorphous Si x C1−x thin films using a methane–silane high energy ion beam |
| Auteur: |
Halac, E.B Huck, H Oviedo, C Reinoso, M.E de Benyacar, M.A.R |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 122 (1999) nr. 1 pagina's 5 p. |
| Jaar: |
1999 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Science S.A. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 8 van 16 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |