|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 223 van 227 gevonden artikelen
| Titel: |
VHF SiH4/H2 plasma characteristics with negative ions |
| Auteur: |
Yamane, Tsukasa Nakao, Sachiko Takeuchi, Yoshiaki Yamauchi, Yasuhiro Takatsuka, Hiromu Muta, Hiroshi Uchino, Kiichiro Kawai, Yoshinobu |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 228 (2013) nr. S1 pagina's 4 p. |
| Jaar: |
2013 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 223 van 227 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |