Digitale Bibliotheek
Sluiten Bladeren door artikelen uit een tijdschrift
 
<< vorige    volgende >>
     Tijdschrift beschrijving
       Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
         Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
           Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
                                       Details van artikel 54 van 111 gevonden artikelen
 
 
  Hysteresis in volume fraction of clusters incorporated into a-Si:H films deposited by SiH4 plasma chemical vapor deposition
 
 
Titel: Hysteresis in volume fraction of clusters incorporated into a-Si:H films deposited by SiH4 plasma chemical vapor deposition
Auteur: Toko, Susumu
Torigoe, Yoshihiro
Keya, Kimitaka
Kojima, Takashi
Seo, Hyunwoong
Itagaki, Naho
Koga, Kazunori
Shiratani, Masaharu
Verschenen in: Surface & coatings technology
Paginering: Jaargang 326 (2017) nr. PB pagina's 7 p.
Jaar: 2017
Inhoud:
Uitgever: Elsevier B.V.
Bronbestand: Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften
 
 

                             Details van artikel 54 van 111 gevonden artikelen
 
<< vorige    volgende >>
 
 Koninklijke Bibliotheek - Nationale Bibliotheek van Nederland