|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 244 van 314 gevonden artikelen
| Titel: |
Room temperature process for chemical vapor deposition of amorphous silicon carbide thin film using monomethylsilane gas |
| Auteur: |
Habuka, Hitoshi Ando, Yusuke Tsuji, Masaki |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 206 (2011) nr. 6 pagina's 4 p. |
| Jaar: |
2011 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 244 van 314 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |