|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 3 van 111 gevonden artikelen
| Titel: |
An in-situ monitor to measure the momentum flux during physical vapour deposition |
| Auteur: |
Mahieu, S. Depla, D. |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 204 (2010) nr. 12-13 pagina's 4 p. |
| Jaar: |
2010 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 3 van 111 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |