|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 9 van 124 gevonden artikelen
| Titel: |
Atomic layer etching of ZrO2 thin films for DRAM capacitors using NF3 plasma and TiCl4 |
| Auteur: |
Yang, Haram Kim, Hyeongjun Jo, Seungmin Lee, Woongkyu |
| Verschenen in: |
Ceramics international |
| Paginering: | Jaargang 51 () nr. 15 pagina's 21110-21116 |
| Jaar: |
2025 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd and Techna Group S.r.l. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 9 van 124 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |