|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 117 van 167 gevonden artikelen
| Titel: |
Optimization of temperature coefficient of resistance of Al-doped vanadium oxide thin film prepared by atomic layer deposition for uncooled microbolometer |
| Auteur: |
Shin, Heecheol Duy, Le Thai Seo, Hyungtak |
| Verschenen in: |
Ceramics international |
| Paginering: | Jaargang 48 () nr. 11 pagina's 15748-15754 |
| Jaar: |
2022 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd and Techna Group S.r.l. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 117 van 167 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |