|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 9 van 153 gevonden artikelen
| Titel: |
A study on the growth mechanism and gas diffusion barrier property of homogeneously mixed silicon–tin oxide by atomic layer deposition |
| Auteur: |
Han, Ju-Hwan Kim, Dong-Yeon Lee, Seunghwan Yang, Hae Lin Park, Byung Ho Park, Jin-Seong |
| Verschenen in: |
Ceramics international |
| Paginering: | Jaargang 47 () nr. 24 pagina's 34774-34782 |
| Jaar: |
2021 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd and Techna Group S.r.l. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 9 van 153 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |