|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 9 van 163 gevonden artikelen
| Titel: |
Atomic layer chemical vapor deposition of SiO2 thin films using a chlorine-free silicon precursor for 3D NAND applications |
| Auteur: |
Baek, GeonHo Baek, Ji-hoon Kim, Hye-mi Lee, Seunghwan Jin, Yusung Park, Hyung Soon Kil, Deok-Sin Kim, Sangho Park, Yongjoo Park, Jin-Seong |
| Verschenen in: |
Ceramics international |
| Paginering: | Jaargang 47 () nr. 13 pagina's 19036-19042 |
| Jaar: |
2021 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd and Techna Group S.r.l. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 9 van 163 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |