|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 12 van 182 gevonden artikelen
| Titel: |
Atomic layer deposition of pure In2O3 films for a temperature range of 200–300 °C using heteroleptic liquid In(DMAMP)2(OiPr) precursor |
| Auteur: |
Han, Jeong Hwan Park, Bo Keun Chung, Taek-Mo |
| Verschenen in: |
Ceramics international |
| Paginering: | Jaargang 46 () nr. 3 pagina's 3139-3143 |
| Jaar: |
2020 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd and Techna Group S.r.l. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 12 van 182 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |