|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 119 van 170 gevonden artikelen
| Titel: |
Molecular dynamics simulation of SiC removal mechanism in a fixed abrasive polishing process |
| Auteur: |
Zhou, Piao Shi, Xunda Li, Jun Sun, Tao Zhu, Yongwei Wang, Zikun Chen, Jiapeng |
| Verschenen in: |
Ceramics international |
| Paginering: | Jaargang 45 () nr. 12 pagina's 14614-14624 |
| Jaar: |
2019 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd and Techna Group S.r.l. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 119 van 170 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |