|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 25 van 205 gevonden artikelen
| Titel: |
Densification of silicon dioxide formed by plasma-enhanced atomic layer deposition on 4H-silicon carbide using argon post-deposition annealing |
| Auteur: |
Lee, Suhyeong Kim, Ji Min Kim, Changhyun Kim, Hyunwoo Kang, Hong Jeon Ha, Min-Woo Kim, Hyeong Joon |
| Verschenen in: |
Ceramics international |
| Paginering: | Jaargang 44 () nr. 12 pagina's 13565-13571 |
| Jaar: |
2018 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd and Techna Group S.r.l. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 25 van 205 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |