|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 53 van 198 gevonden artikelen
| Titel: |
Effect of nitrogen flow rate on TaN diffusion barrier layer deposited between a Cu layer and a Si-based substrate |
| Auteur: |
Chen, Shih-Fan Wang, Shea-Jue Yang, Tzu-Hsien Yang, Zheng-Da Bor, Hui-Yun Wei, Chao-Nan |
| Verschenen in: |
Ceramics international |
| Paginering: | Jaargang 43 (2017) nr. 15 pagina's 12505-12510 |
| Jaar: |
2017 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd and Techna Group S.r.l. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 53 van 198 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |