|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 113 van 142 gevonden artikelen
| Titel: |
Silicon oxide film deposited at room temperatures using high-working-pressure plasma-enhanced chemical vapor deposition: Effect of O2 flow rate |
| Auteur: |
Lee, Young-Soo Lee, SeungHwan Kwon, Jung-Dae Ahn, Ji-Hoon Park, Jin-Seong |
| Verschenen in: |
Ceramics international |
| Paginering: | Jaargang 43 (2017) nr. 13 pagina's 4 p. |
| Jaar: |
2017 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd and Techna Group S.r.l. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 113 van 142 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |