|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 5 van 7 gevonden artikelen
| Titel: |
Precursors and operating conditions for the metal-organic chemical vapor deposition of nickel films |
| Auteur: |
Brissonneau, Laurent Vahlas, Constantin |
| Verschenen in: |
Annales de chimie science des materiaux |
| Paginering: | Jaargang 25 (2000) nr. 2 pagina's 10 p. |
| Jaar: |
2000 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier, Paris |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 5 van 7 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |