|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 9 van 16 gevonden artikelen
| Titel: |
Oxidation behaviour of Cu thin films on Si wafer at 175–400°C |
| Auteur: |
Gao, W. Gong, H. He, J. Thomas, A. Chan, L. Li, S. |
| Verschenen in: |
Materials letters |
| Paginering: | Jaargang 51 (2001) nr. 1 pagina's 7 p. |
| Jaar: |
2001 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Science B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 9 van 16 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |