|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 3 van 11 gevonden artikelen
| Titel: |
Effect of ammonia plasma pretreatment on the plasma enhanced chemical vapor deposited silicon nitride films |
| Auteur: |
Bose, M. Basa, D.K. Bose, D.N. |
| Verschenen in: |
Materials letters |
| Paginering: | Jaargang 48 (2001) nr. 6 pagina's 6 p. |
| Jaar: |
2001 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Science B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 3 van 11 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |