|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 7 van 8 gevonden artikelen
| Titel: |
Polycrystalline silicon film formation at low temperature using ultra-high-frequency plasma enhanced chemical vapor deposition |
| Auteur: |
Mebarki, B Sumiya, S Yoshida, R Ito, M Hori, M Goto, T Samukawa, S Tsukada, T |
| Verschenen in: |
Materials letters |
| Paginering: | Jaargang 41 (1999) nr. 1 pagina's 4 p. |
| Jaar: |
1999 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Science B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 7 van 8 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |