|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 89 van 136 gevonden artikelen
| Titel: |
Modification of Schottky barrier height for NiFe/p-Si contacts by inserting an ultra-thin HfO2 dielectric layer |
| Auteur: |
Li, Yao Wang, Fenqiang Wang, Ailing Lan, Jun Pan, Miao Liu, Li Lu, Qihai |
| Verschenen in: |
Materials letters |
| Paginering: | Jaargang 333 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2023 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 89 van 136 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |