|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 4 van 19 gevonden artikelen
| Titel: |
Chemical vapor deposition of boron-carbon films using organometallic reagents |
| Auteur: |
Lewis, John S. Vaidyaraman, Sundar Lackey, W.Jack Agrawal, Pradeep K. Freeman, Garth B. Barefield, E.Kent |
| Verschenen in: |
Materials letters |
| Paginering: | Jaargang 27 (1996) nr. 6 pagina's 6 p. |
| Jaar: |
1996 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 4 van 19 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |