|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 41 van 58 gevonden artikelen
| Titel: |
Post deposition annealing effect on properties of Y2O3/Al2O3 stacking gate dielectric on 4H-SiC |
| Auteur: |
Zhao, Feng Amnuayphol, Oliver Cheong, Kuan Yew Wong, Yew Hoong Jiang, Jheng-Yi Huang, Chih-Fang |
| Verschenen in: |
Materials letters |
| Paginering: | Jaargang 245 (2019) nr. C pagina's 174-177 |
| Jaar: |
2019 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 41 van 58 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |