|
Annealing effects on properties of Ga2O3 films deposited by plasma-enhanced atomic layer deposition |
|
|
|
Titel: |
Annealing effects on properties of Ga2O3 films deposited by plasma-enhanced atomic layer deposition |
Auteur: |
Shi, Fengfeng Han, Jun Xing, Yanhui Li, Junshuai Zhang, Li He, Tao Li, Tao Deng, Xuguang Zhang, Xiaodong Zhang, Baoshun |
Verschenen in: |
Materials letters |
Paginering: |
Jaargang 237 (2019) nr. C pagina's 105-108 |
Jaar: |
2019 |
Inhoud: |
|
Uitgever: |
Elsevier B.V. |
Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
|
|
|
|