|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 22 van 64 gevonden artikelen
| Titel: |
Enhanced capacitive property of HfN film electrode by plasma etching for supercapacitors |
| Auteur: |
Gao, Zecui Wu, Zhengtao Zhao, Shengsheng Zhang, Tengfei Wang, Qimin |
| Verschenen in: |
Materials letters |
| Paginering: | Jaargang 235 (2019) nr. C pagina's 148-152 |
| Jaar: |
2019 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 22 van 64 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |