|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 12 van 102 gevonden artikelen
| Titel: |
Corrigendum to “A simple route to deposit SiO2 film with resistivity >109 Ω·μm” [Mater. Lett. 211 (2018) 277–280] |
| Auteur: |
Wang, Dengyao Liu, Jindong Lv, Zhixuan Tao, Hualong Cui, Yunxian Wang, Hualin Liu, Shimin Liu, Chaoqian Wang, Nan Jiang, Weiwei Chai, Weiping Ding, Wanyu |
| Verschenen in: |
Materials letters |
| Paginering: | Jaargang 213 (2018) nr. C pagina's 399 |
| Jaar: |
2018 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 12 van 102 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |