|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 2 van 69 gevonden artikelen
| Titel: |
Amazing diffusion depth of ultra-thin hafnium oxide film grown on n-type silicon by lower temperature atomic layer deposition |
| Auteur: |
Lu, Qihai Huang, Rong Lan, Xiaoling Chi, Xiaowei Lu, Chao Li, Cheng Wu, Zhiguo Li, Jun Han, Genliang Yan, Pengxun |
| Verschenen in: |
Materials letters |
| Paginering: | Jaargang 169 (2016) nr. C pagina's 4 p. |
| Jaar: |
2016 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 2 van 69 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |