|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 2 van 259 gevonden artikelen
| Titel: |
A comparative study of plasma enhanced chemically vapor deposited SiOH and SiNCH films using the environmentally benign precursor diethylsilane |
| Auteur: |
Levy, R.A Chen, L Grow, J.M Yu, Y |
| Verschenen in: |
Materials letters |
| Paginering: | Jaargang 54 (2002) nr. 2-3 pagina's 6 p. |
| Jaar: |
2002 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Science B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 2 van 259 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |