|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 47 van 80 gevonden artikelen
| Titel: |
Line-edge-roughness characterization of photomask patterns and lithography-printed patterns |
| Auteur: |
Wang, Zhikun Lin, Pengfei Nguyen, Phuc Wang, Jingyan Lee, ChaBum |
| Verschenen in: |
Precision engineering |
| Paginering: | Jaargang 88 () nr. C pagina's 235-240 |
| Jaar: |
2024 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Inc. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 47 van 80 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |