|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 3 van 35 gevonden artikelen
| Titel: |
Analysis of the material removal mechanism in chemical mechanical polishing with in-situ macroscale nonwoven pad contact interface observation using an evanescent field |
| Auteur: |
Uneda, Michio Kubo, Naoki Hatatani, Mizuki Hotta, Kazutoshi Morinaga, Hitoshi |
| Verschenen in: |
Precision engineering |
| Paginering: | Jaargang 82 () nr. C pagina's 281-289 |
| Jaar: |
2023 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Inc. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 3 van 35 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |