|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 32 van 34 gevonden artikelen
| Titel: |
The polishing properties of magnetorheological-elastomer polishing pad based on the heterogeneous Fenton reaction of single-crystal SiC |
| Auteur: |
Hu, Da Lu, Jiabin Deng, Jiayun Yan, Qiusheng Long, Haotian Luo, Yingrong |
| Verschenen in: |
Precision engineering |
| Paginering: | Jaargang 79 () nr. C pagina's 78-85 |
| Jaar: |
2023 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Inc. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 32 van 34 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |