|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 31 van 42 gevonden artikelen
| Titel: |
Observation and modulation of gas film and plasma behavior in electrolytic plasma hybrid etching of semiconductor material 4H–SiC |
| Auteur: |
Zhan, Shunda Lu, Jiajun Zhao, Yonghua |
| Verschenen in: |
Precision engineering |
| Paginering: | Jaargang 74 () nr. C pagina's 403-413 |
| Jaar: |
2022 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Inc. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 31 van 42 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |