|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 5 van 30 gevonden artikelen
| Titel: |
Applications of energy flux and numerical analyses to the plasma etching of silicon deep trench isolation (DTI) structures |
| Auteur: |
Han, Chang-Fu Lin, Chun-Chiao Lin, Jen-Fin |
| Verschenen in: |
Precision engineering |
| Paginering: | Jaargang 71 () nr. C pagina's 141-152 |
| Jaar: |
2021 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Inc. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 5 van 30 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |