|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 10 van 18 gevonden artikelen
| Titel: |
High precision chemical mechanical polishing of highly-boron-doped Si wafer used for epitaxial substrate |
| Auteur: |
Watanabe, J. Yu, G. Eryu, O. Koshiyama, I. Izumi, K. Nakashima, K. Umeno, M. Jimbo, T. Kodama, K. |
| Verschenen in: |
Precision engineering |
| Paginering: | Jaargang 29 (2005) nr. 2 pagina's 6 p. |
| Jaar: |
2005 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 10 van 18 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |