|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 14 van 17 gevonden artikelen
| Titel: |
Mechanical vibration assisted plasma etching for etch rate and anisotropy improvement |
| Auteur: |
Takeshi, Hatsuzawa Masanori, Hayase Toshiaki, Oguchi |
| Verschenen in: |
Precision engineering |
| Paginering: | Jaargang 26 (2002) nr. 4 pagina's 6 p. |
| Jaar: |
2002 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Science Inc. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 14 van 17 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |