|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 15 van 39 gevonden artikelen
| Titel: |
High-order wavefront aberration measurement method for hyper-NA lithographic projection lens based on a binary target and rotated regression matrix |
| Auteur: |
Zhu, Boer Li, Sikun Wang, Xiangzhao Meng, Zejiang Zhang, Heng Dai, Fengzhao Tang, Feng Duan, Lifeng |
| Verschenen in: |
Optics communications |
| Paginering: | Jaargang 431 (2019) nr. C pagina's 158-166 |
| Jaar: |
2019 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 15 van 39 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |