|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 19 van 22 gevonden artikelen
| Titel: |
Ultra-thin oxide growth on silicon during 10keV x-ray irradiation |
| Auteur: |
Bhandaru, S. Zhang, E.X. Fleetwood, D.M. Reed, R.A. Weller, R.A. Harl, R.R. Rogers, B.R. Weiss, S.M. |
| Verschenen in: |
Surface science |
| Paginering: | Jaargang 635 (2015) nr. C pagina's 6 p. |
| Jaar: |
2015 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 19 van 22 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |