|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 14 van 62 gevonden artikelen
| Titel: |
Effect of atomic layer deposited ultra thin HfO2 and Al2O3 interfacial layers on the performance of dye sensitized solar cells |
| Auteur: |
Shanmugam, Mariyappan Baroughi, Mahdi Farrokh Galipeau, David |
| Verschenen in: |
Thin solid films |
| Paginering: | Jaargang 518 (2010) nr. 10 pagina's 5 p. |
| Jaar: |
2010 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 14 van 62 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |