|
The influence of growth temperature and precursors’ doses on electrical parameters of ZnO thin films grown by atomic layer deposition technique |
|
|
|
Titel: |
The influence of growth temperature and precursors’ doses on electrical parameters of ZnO thin films grown by atomic layer deposition technique |
Auteur: |
Krajewski, T. Guziewicz, E. Godlewski, M. Wachnicki, L. Kowalik, I.A. Wojcik-Glodowska, A. Lukasiewicz, M. Kopalko, K. Osinniy, V. Guziewicz, M. |
Verschenen in: |
Microelectronics journal |
Paginering: |
Jaargang 40 () nr. 2 pagina's 293-295 |
Jaar: |
2009 |
Inhoud: |
|
Uitgever: |
Elsevier Ltd |
Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
|
|
|
|