|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 31 van 81 gevonden artikelen
| Titel: |
Effect of deposition rate and thickness on the structural and electrical properties of evaporated Ni/glass and Ni/Si(100) thin films |
| Auteur: |
Hemmous, M. Layadi, A. Guittoum, A. Bourzami, A. Benabbas, A. |
| Verschenen in: |
Microelectronics journal |
| Paginering: | Jaargang 39 () nr. 12 pagina's 1545-1549 |
| Jaar: |
2008 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 31 van 81 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |