|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 8 van 14 gevonden artikelen
| Titel: |
High quality silicon nitride deposited by Ar/N2/H2/SiH4 high-density and low energy plasma at low temperature |
| Auteur: |
Zhong, Chuan Jie Tanaka, Hiroaki Sugawa, Shigetoshi Ohmi, Tadahiro |
| Verschenen in: |
Microelectronics journal |
| Paginering: | Jaargang 37 () nr. 1 pagina's 44-49 |
| Jaar: |
2006 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 8 van 14 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |