|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 3 van 12 gevonden artikelen
| Titel: |
Effect of deposition methods on dielectric breakdown strength of PECVD low-k carbon doped silicon dioxide dielectric thin films |
| Auteur: |
Zhou, H. Shi, F.G. Zhao, B. Yota, J. |
| Verschenen in: |
Microelectronics journal |
| Paginering: | Jaargang 35 () nr. 7 pagina's 571-576 |
| Jaar: |
2004 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 3 van 12 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |