|
Characterization of defect traps in SiO2 thin films influence of temperature on defects |
|
|
|
Titel: |
Characterization of defect traps in SiO2 thin films influence of temperature on defects |
Auteur: |
Rosaye, Jean-Yves Kurumado, Norihiko Sakashita, Mitsuo Ikeda, Hiroya Sakai, Akira Mialhe, Pierre Charles, Jean-Pierre Zaima, Shigeaki Yasuda, Yukio Watanabe, Yurihiko |
Verschenen in: |
Microelectronics journal |
Paginering: |
Jaargang 33 () nr. 5-6 pagina's 429-436 |
Jaar: |
2002 |
Inhoud: |
|
Uitgever: |
Elsevier Science Ltd |
Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
|
|
|
|