|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 18 van 23 gevonden artikelen
| Titel: |
Properties of low-k SiCOH films prepared by plasma-enhanced chemical vapor deposition using trimethylsilane |
| Auteur: |
Narayanan, B Kumar, R Foo, P.D |
| Verschenen in: |
Microelectronics journal |
| Paginering: | Jaargang 33 () nr. 11 pagina's 971-974 |
| Jaar: |
2002 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 18 van 23 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |