|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 2 van 14 gevonden artikelen
| Titel: |
Application of α-C:H films to masking etching of silicon dioxide |
| Auteur: |
Fissore, A. Alves, M.A.R. da Silva Braga, E. Cescato, L. |
| Verschenen in: |
Microelectronics journal |
| Paginering: | Jaargang 30 () nr. 9 pagina's 833-836 |
| Jaar: |
1999 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Science Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 2 van 14 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |