|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 14 van 15 gevonden artikelen
| Titel: |
The dependence of etch rate of photo-CVD silicon nitride films on NH4F content in buffered HF |
| Auteur: |
Rathi, V.K. Gupta, Manju Agnihotri, O.P. |
| Verschenen in: |
Microelectronics journal |
| Paginering: | Jaargang 26 () nr. 6 pagina's 563-567 |
| Jaar: |
1995 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 14 van 15 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |