|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 6 van 19 gevonden artikelen
| Titel: |
Dry etching properties of TiO2 thin films in O2/CF4/Ar plasma |
| Auteur: |
Choi, Kyung-Rok Woo, Jong-Chang Joo, Young-Hee Chun, Yoon-Soo Kim, Chang-Il |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 92 (2013) nr. C pagina's 5 p. |
| Jaar: |
2013 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 6 van 19 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |