|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 15 van 27 gevonden artikelen
| Titel: |
Etch characteristics of TiN/Al2O3 thin film by using a Cl2/Ar adaptive coupled plasma |
| Auteur: |
Woo, Jong-Chang Kim, Seung-Han Kim, Chang-Il |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 86 (2011) nr. 4 pagina's 6 p. |
| Jaar: |
2011 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 15 van 27 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |